EVG 6200∞ BA  Automated Bond Alignment System

EVG 6200∞BA自動鍵對準(zhǔn)系統(tǒng)

用于晶圓間對準(zhǔn)的自動化鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)，用于中試和批量生產(chǎn)

EVG粘合對準(zhǔn)系統(tǒng)提供了zui高的精度，靈活性和易用性，模塊化升級功能，并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進(jìn)行了認(rèn)證。 EVG鍵對準(zhǔn)器的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中zui苛刻的對準(zhǔn)過程。

特征

適用于所有EVG 200 mm粘合系統(tǒng)

支持zui大200 mm晶片尺寸的雙晶片或三晶片堆疊的鍵合對準(zhǔn)

手動或電動對中平臺，帶有自動對中選項(xiàng)

全電動高分辨率底面顯微鏡

基于Windows 的用戶界面

選件

自動對齊

紅外對準(zhǔn)，用于內(nèi)部基板鍵對準(zhǔn)

NanoAlign 封裝可增強(qiáng)處理能力

可與系統(tǒng)機(jī)架一起使用

面罩對準(zhǔn)器的升級可能性

技術(shù)數(shù)據(jù)

常規(guī)系統(tǒng)配置

桌面

系統(tǒng)機(jī)架：可選

隔振：被動

對準(zhǔn)方法：背面對齊：±2 µm 3σ；  透明對準(zhǔn)：±1 µm 3σ

紅外校準(zhǔn)：選件

對準(zhǔn)階段：精密千分尺：手動；     可選：電動千分尺

楔形補(bǔ)償：自動