一、雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)核心參數(shù)：  

儀器種類：磁控濺射 

產(chǎn)地類別：國產(chǎn)  

應(yīng)用領(lǐng)域：微電子學(xué)  

基片尺寸：4寸（可定制）  

靶材：鉭  

基片溫度范圍：RT-900oC  

成膜厚度均勻性：基板刻蝕均一性<3%  

極限真空：極限真空UltimatePressure<3E-9Torr  

二、磁控濺射技術(shù)原理：  

在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場。當(dāng)濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后，并不直接飛向陽極，而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運(yùn)動。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉(zhuǎn)移能量，使之電離而本身變成低能電子。這些低能電子最終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收，避免高能電子對極板的強(qiáng)烈轟擊，消除了二級濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷，體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫”的特點(diǎn)。由于外加磁場的存在，電子的復(fù)雜運(yùn)動增加了電離率，實(shí)現(xiàn)了高速濺射。  

三、雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)技術(shù)特點(diǎn)：  

成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好 

四、售后服務(wù)：  

保修期：1年  

是否可延長保修期：否  

現(xiàn)場技術(shù)咨詢：有  

免費(fèi)培訓(xùn)：1.設(shè)備出廠前，提供至少2人一周的設(shè)備原廠培訓(xùn)。2.設(shè)備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試  

免費(fèi)儀器保養(yǎng)：有需要可安排  

保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災(zāi)和人為損害外）部件、元件費(fèi)用、出差費(fèi)用均由我司承擔(dān)  

報(bào)修承諾：質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應(yīng)，并在8小時內(nèi)派技術(shù)人員到現(xiàn)場解決故障；  

五、技術(shù)參數(shù)：  

六、工藝展示：