2 設備名稱：晶片腐蝕機

2 設備型號：RHXX-待定

2 制作材質：PP

2 處理能力：每槽2籃6寸或1籃8寸

2 整機尺寸：約2000mm(L) ×1300mm(W) ×2400mm（H）

晶片腐蝕機主體構造特點

由于是一個酸性的環境，我們設備的排風方式，臺面下抽風為主，背部、頂部排風的綜合排廢氣系統，槽下有單獨的抽風裝置，同時工藝槽采用自動供液裝置。

設備結構外型，整機主要由機架、工藝槽體、機械手系統、排風系統、電控系統、水路系統及氣路系統等組成。

由于工藝槽內藥液腐蝕性強，設備需要做防腐處理：（1）設備機架采用鋼結構骨架包塑；（2）殼體采用瓷白色PP板材焊接成型，制程區由耐酸堿PP板材組合焊接而成：（3）電氣區設置在設備后上部，與濕區和管路區隔離；（4）槽體材料選用耐相應溶液腐蝕的材料；（5）機械手探人濕區部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理或為鐵氟龍加工件。

設備的排風系統由引風窗和排風口組成，排風口位于設備后頂都。排風板為可拆卸可調結構，以便清除可能產生的結晶。排風口處設有自動調節風門，即上電打開風門，斷電關閉風門。具有風壓檢測功能，以及氮氣、壓縮空氣壓力報警功能。設備前、后下方均設有維護門。臺面為多孔結構，便于臺面上沖洗水、液的排出。機械手抓取部位位于液面以上，以防止傳遞過程中的交叉污染。所有和晶片直接接觸的化學介質中不允許有金屬出現。

設備臺面排列布置如（臺面布置圖）所示，共3個腐蝕工作位，3個水洗工位；所有槽工作在潔凈、全封閉的結構中，工作參數通過觸摸屏設置。每個工位均設置單獨控制按鈕（開始，停止，急停），可分別控制4個工藝位；將來清洗片盒手工放在機械手上，操作人員按“開始/start按鈕”后，進行工藝動作；清洗完成后系統發出報警提出信號，待人工手動取出。設備臺面的左、右前方分別配置PP材料的水（2把，2把水槍），便于工件及設備的清理；設備整機放置于一個PP承露盤中，防止藥液漏液至高架地板，承露盤中設置漏液傳感器，漏液報警。