化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>工藝測量和檢測設(shè)備>晶圓缺陷光學檢測設(shè)備> KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)
KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)
參考價 | ¥50000-¥999999/臺 |
- 公司名稱 德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
- 品牌KLA-Tencor
- 型號
- 所在地香港特別行政區(qū)
- 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
- 更新時間2025/5/9 17:04:12
- 訪問次數(shù) 666
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KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)采用專有的光學技術(shù),可同時測量兩個入射角的散射強度。 它可以捕捉到形貌變化、表面反射率、相位變化和光致發(fā)光,從而對各種關(guān)鍵缺陷進行自動檢測與分類。KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)為氮化鎵晶圓提供表面和光致發(fā)光的缺陷檢測,對氮化鎵位錯、凹坑和孔洞進行檢測和分類,用于氮化鎵反應器的缺陷控制。其功率應用包括基于碳化硅的透明晶圓檢查和晶體缺陷分類,如基面位錯、微管、堆疊層錯缺陷、條形堆疊層錯缺陷、晶界和位錯,以及對三角形、胡蘿卜形、滴落物和劃痕等形貌缺陷進行檢測。
功能
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檢測寬帶隙材料上的缺陷,包括直徑達200毫米的碳化硅和氮化鎵(襯底和外延)
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支持各種晶圓厚度
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對微粒、劃痕、裂紋、沾污、凹坑、凸起、KOH蝕刻、胡蘿卜形與表面三角形缺陷、基平面位錯、堆疊層錯、晶界、位錯和其他宏觀外延干擾進行檢測
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應用案例
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襯底質(zhì)量控制
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襯底供應商對比
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入廠晶圓質(zhì)量控制(IQC)
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出廠晶圓質(zhì)量控制(OQC)
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CMP(化學機械拋光工藝)/拋光工藝控制
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晶圓清洗工藝控制
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外延工藝控制
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襯底與外延缺陷關(guān)聯(lián)
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外延反應器供應商的對比
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工藝機臺監(jiān)控
行業(yè) ong>
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工藝設(shè)備監(jiān)控
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其他化合物半導體器件
選項
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SECS-GEM
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信號燈塔
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金剛石劃線
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校準標準
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離線軟件
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光學字符識別(OCR)
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光致發(fā)光