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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>勻膠機>L2001 Ossila勻膠機旋涂儀

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L2001 Ossila勻膠機旋涂儀

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 Ossila/歐西拉
  • 型號 L2001
  • 產地 英國
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/5/15 10:07:10
  • 訪問次數 45

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半導體化工領域專業實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創新精神的高科技公司,專業提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優質專業的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協助他們實現高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

Ossila勻膠機旋涂儀以經濟型設計融合實驗室操作需求,采用免真空技術替代傳統真空泵/氮氣依賴,通過特制凹槽托盤實現基片穩定固定。設備集成10組可編程參數模塊,支持120-6000 RPM寬域調速及多工序流程設定,配備不銹鋼防腐蝕外殼與24V直流安全供電系統,適配多種規格基片處理,在簡化操作流程的同時降低維護成本,滿足實驗室精準涂覆與耐用性需求。

Ossila勻膠機旋涂儀采用經濟型定價策略與緊湊型結構設計,集成以下核心功能:

  1. 非真空工藝創新
    通過內嵌式托盤機構實現氣源依賴消除(無需真空泵/氮氣輔助),有效規避基板形變風險,確保薄膜沉積均勻性(厚度偏差≤2%)

  2. 多程序管理系統

    • 10組獨立工藝參數存儲單元

    • 寬域轉速調節(120-6000 RPM)

    • 多段程序控制(單程序50工序步長)

  3. 耐腐蝕構造設計
    采用不銹鋼-鋼化玻璃復合防護體系,搭配PP抗化學腐蝕托盤,適配強酸/強堿實驗環境

  4. 低壓安全供電系統
    24V直流電源集成過載保護模塊,符合IEC 61010-1電氣安全標準

  5. 多規格基板適配性
    標配非接觸式基板固定方案,兼容5-200mm直徑樣品處理(特殊尺寸支持定制化改造)


 

為什么要無真空?

市場上的大多數使用真空泵在旋轉時保持基材。 與其他產品不同的是,該款采用創新設計的托盤,襯底通過切入聚丙烯托盤的凹槽保持在適當的位置,使多余的涂層材料被排出。

 

Ossila勻膠機旋涂儀

該款托盤將基材固定在適當位置,無需真空,確保其穩定性。

 

真空吸盤很可能會造成較薄的基材向內翹曲,影響涂層的均勻性,降低設備的質量和性能。 而這款無真空吸盤可確保您的基材平整無損,即使它們是柔性基材,也能保持均勻的薄膜分布。

 

Ossila勻膠機旋涂儀

與常規旋涂儀相比,該款無真空旋涂儀能夠實現均勻的薄膜分布。

 

真空旋涂儀只能安裝在有真空管路的地方,固定在保留設置的位置上,不用時會占用空間。 由于不需要真空管線,該款旋涂儀可以安裝在任何位置,可以在臺面上,通風櫥和手套箱中使用,只需一個電源插座。

 

大多數旋涂儀都被真空泵的隱藏成本所困擾,這些真空泵通常需單獨報價。 真空泵容易斷裂,造成昂貴的維修費用,延誤實驗進程。 這主要是由于過量的溶劑被吸入真空管路中,損壞了內部元件。使用該款無真空旋涂儀可以減少短期和長期成本,為您提供啟動旋涂所需的一切 - 1950英鎊的全包價格。 我們還提供免費的1年保修服務,以便在需要維修的情況下盡快恢復設備正常工作。

 

 

 

 

 



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