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MA-1400 DNK大日本科研實驗·研究用曝光設備

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具體成交價以合同協議為準

產品型號:

品       牌:

廠商性質:代理商

所  在  地:深圳市

更新時間:2024-08-13 18:07:51瀏覽次數:1082

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MA-1400 DNK大日本科研實驗·研究用曝光設備
實驗·研究用曝光設備MA-1400 實驗·研究用曝光設備簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產

MA-1400 DNK大日本科研實驗·研究用曝光設備

MA-1400 DNK大日本科研實驗·研究用曝光設備

實驗·研究用曝光設備

  • 對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產。
  • 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。
  • 對應zui大尺寸為500mm×500mm的基板。根據用途和基板尺寸,配置有*組合的光學系統。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
  • 實驗·研究用曝光設備
     MA-1200MA-1400
    基板尺寸Max 200 x 200mm
    ø4" ~ ø6"
    Max 400 x 400mm
    光源超高壓水銀燈 :500W or 1kW超高壓水銀燈 :2kW or 3.5kW
    外觀尺寸及重量本體尺寸W1240 x D1100 x H1725 mmW1440 x D1590 x H1882 mm
    本體重量400kg400kg(包含無塵機房)
    光源重量250kg
    選購項無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

    ※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規格可商洽

     

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