英國格拉斯哥大學的詹姆斯•瓦特納米技術中心在其已安裝的牛津儀器公司刻蝕和沉積設備基礎上添加了一臺 PlasmaPro® System100 ICP 等離子刻蝕系統。 PlasmaPro System100 ICP 適用于多種用途下的化合物半導體材料刻蝕，如光電子、毫米波&太赫茲技術、生物工程、生物技術、芯片實驗室技術、能量收集技術和太陽能光伏技術。

牛津儀器公司的銷售和市場部總監 Mark Vosloo評價說，“牛津儀器公司主要集中開發前沿研發設備, 而這份牛津儀器公司設備系統增補訂單強化了我們為格拉斯哥大學提供研究設備選擇的承諾。”

“多年來，我們與牛津儀器公司密切合作，將他們的刻蝕和沉積系統成功地用于我們的研究”，詹姆斯•瓦特納米技術中心主任和半導體儀器教授，Douglas Paul教授說，“我們zui近發出了一份增補牛津儀器公司系統的訂單，因為我們對這些工具的靈活具有深刻印象。 我們多年來一直使用他們的工具，在我們要推出5nm以下特性尺寸技術時，將繼續使用這些工具來開發新的用于納米制造的刻蝕和沉積工藝。 而且，為了盡可能擴大我們的應用范圍并盡可能利用投資，設備的維護至關重要，而我們對于牛津儀器公司提供的一貫高品質支持服務極為滿意”。

牛津儀器公司致力于通過科學技術實施負責任的研發，并深化對世界需求的理解，利用創新將科學智慧融入到*產品中來支持研究和工業發展。

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