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主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機
NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機
簡單介紹:MYCRO*美國恩科優NXQ Mask Alignment光刻機,是quanqiu*的光刻系統,在光刻領域有超過35年的經驗,quanqiu售出1000多套設備,為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統,廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。
產品型號:NXQ4000系列   所在地:北京市   更新時間:2024-05-16
參考價:面議 詢價留言
NXQ400-8NXQ掩膜對準曝光機
NXQ400-8NXQ掩膜對準曝光機
簡單介紹:MYCRO*美國恩科優N&Q系列光刻機(Mask Aligner),是*的光刻系統,在光刻領域有超過35年的經驗,售出1000多套設備,為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統,廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。
產品型號:NXQ400-8   所在地:北京市   更新時間:2024-05-16
參考價:面議 詢價留言
NXQ800-6NXQ光刻機
NXQ800-6NXQ光刻機
簡單介紹:MYCRO*美國NXQ光刻機(Mask Aligner),是*的光刻系統,在光刻領域有超過35年的經驗,已售出1000多套設備,為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統,廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。
產品型號:NXQ800-6   所在地:北京市   更新時間:2024-05-16
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