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高真空定向凝固系統--DHN400 參考價：面議
高真空定向凝固系統--DHN400真空室結構:圓筒形上開蓋真空室尺寸::φ440x500mm極限真空度:≤6.67E-5Pa沉積源:無樣品尺寸，溫度:約p80m...
高真空單輥旋淬及噴鑄系統--XC500 參考價：面議
高真空單輥旋淬及噴鑄系統--XC500真空室結構:圓筒形前開門真空室尺寸:φ500X300mm極限真空度:≤6.67E-5Pa沉積源:樣品尺寸，溫度:感應熔煉1...
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700 參考價：面議
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700真空室結構: U形前開門真空室尺寸:700x700x900mm極限真空度:≤6.6E-5Pa沉積源:6個40cc坩堝樣...
高真空電弧熔煉及吸鑄系統--DHL400 參考價：面議
高真空電弧熔煉及吸鑄系統--DHL400真空室結構:圓筒形上升蓋真空室尺寸:φ400X320mm極限真空度:≤8.0E-5Pa沉積源:無樣品尺寸，溫度:占地面積...
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD450 參考價：面議
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD450真空室結構:球形前開門真空室尺寸:450mm極限真空度:≤6.67E-6Pa沉積源:2英寸靶材，4個樣品尺寸，溫度...
高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統--DZS500 參考價：面議
高真空電子東及熱阻蒸發薄膜沉積系統--DZS500真空室結構:U形前開門真空室尺寸:500x500x600mm極限真空度:≤6.67E-5Pa沉積源:4個11c...
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500 參考價：面議
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500真空室結構:方形前開門真空室尺寸:p500x500x500mm極限真空度:≤3.0E-5Pa沉積源:永磁靶4套，2英寸...
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--TRP450 參考價：面議
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--TRP450真空室結構:圓筒形前開門真空室尺寸:φ450x400mm極限真空度:≤6.6E-6Pa沉積源:永磁靶3套，2英寸，可以...
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