過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用是一款針對測量高濃度臭氧的氣體檢測模塊，用于檢測工業(yè)過程中的氣態(tài)臭氧濃度。基于紫外分光吸收原理設(shè)計，利用臭氧氣體對特定紫外線吸收力的大小不同，來達到臭氧濃度檢測的目的，采用耐高壓沖擊的檢測腔室結(jié)構(gòu)及恒溫控制設(shè)計，具有精準性和可靠性。

應(yīng)用領(lǐng)域

本儀器主要應(yīng)用于測量半導(dǎo)體晶片制造、水處理和臭氧研究等過程中產(chǎn)生的氣態(tài)臭氧濃度，測量范圍可達到0-400mg/L。

產(chǎn)品特點
①高穩(wěn)定性；

②采用自動控制系統(tǒng)；

③高純度接觸材料設(shè)計；

④溫度、壓力、光源實時補償，在不同環(huán)境下數(shù)據(jù)穩(wěn)定準確；

⑤氣路直線設(shè)計，使得產(chǎn)品安裝更為方便；

⑥密封圈采用全氟醚材質(zhì)，更耐臭氧腐蝕。

過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用技術(shù)參數(shù)
量  程：0-400mg/L
精  度：1%F.S
重 復(fù)性：1%F.S

零 漂 移：1%F.S/月
響應(yīng)時間：2秒到95%

氣體流量：0.5-25L/min

壓力范圍：0-115psi
模擬輸出：0-5V

串口通訊：RS485，波特率9600bps

電源輸入：15V

接    口：316L不銹鋼1/4VCR接頭

預(yù)熱時間：15min

工作溫度：5～45℃

標準溫度：0℃
尺  寸：170*55*134.9mm
重  量：1.1k