Mass Applied Sciences (MAS) 公司推出的AREPA型原液zeta電位分析儀是一款創新的產品，專門用于測量和控制各種液體懸浮液中的顆粒大小分布及Zeta電位。這項技術特別適用于需要精確控制顆粒特性的工業領域，如半導體制造中的化學機械拋光(CMP)泥漿、油墨、涂料、顏料、陶瓷材料、催化劑、乳液(包括石油制品)、藥物制劑以及食品和生物膠體等行業。
主要特點
非侵入式測量 AREPA型分析儀采用先進的聲波傳感技術，能夠直接在生產線上對未經稀釋的樣品進行實時監測，無需取出樣品或添加任何試劑，從而避免了傳統方法中可能引入的誤差。
無需移動部件 該設備設計時充分考慮到了工業應用中的耐用性需求，采用了無活動部件的設計理念，這意味著它可以全天候不間斷工作，減少了因機械故障導致的停機時間和維修成本。
廣泛的適用性 AREPA型分析儀適用于多種工業環境下的在線粒度測量，如化工、石油加工、醫藥生產等。無論是在半導體CMP工藝中的泥漿調配，還是在食品加工中的質量控制，都能發揮重要作用。
經濟高效 通過實時監測和調整生產工藝參數，該設備可以幫助企業優化生產流程，提高成品質量和一致性，降低原材料浪費，從而實現更高的經濟效益。
工作原理
AREPA型分析儀的核心技術在于其聲衰減光譜測量法。不同于傳統基于光學散射的方法，此設備利用聲波與液體中粒子相互作用產生的衰減效應來推斷粒子大小及其分布情況。具體而言，通過發射聲波穿過待測樣品，并接收反射回來的信號，分析反射信號的變化規律，即可得到關于顆粒尺寸的信息。
此外，該設備還能進一步測量顆粒表面的Zeta電位，這是衡量顆粒分散穩定性的重要指標之一。Zeta電位的高低反映了顆粒間靜電斥力的強弱，對于確保分散體系的長期穩定至關重要。
實際應用案例
目前，AREPA型分析儀已被廣泛應用于基礎研究和工業生產之中。無論是學術機構還是工業企業，都能從中受益。例如，在半導體制造業中，精確控制CMP泥漿的顆粒特性對于保證晶圓表面的平整度至關重要;而在制藥行業，則可用于監測藥物顆粒的大小，確保其符合制劑要求。
綜上所述，AREPA型原液zeta電位分析儀憑借其技術優勢，在眾多行業中展現了廣闊的應用前景。隨著技術的不斷發展和完善，預計未來還將有更多創新功能被集成進來，以滿足日益復雜的工業需求。
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