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德耐熱(上海)電爐有限公司
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大同1200度PID智能控溫箱式實驗真空氣氛爐

參  考  價:5000 - 11500
具體成交價以合同協議為準
  • 型號

    DNR系列

  • 品牌

    其他品牌

  • 廠商性質

    生產商

  • 所在地

    上海市

規格

100*100*100 5000元 14臺可售

300*200*200 8500元 8臺可售

400*300*300 11500元 12臺可售

更新時間:2025-04-25 18:06:56瀏覽次數:154次

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應用領域 環保,化工,地礦,電子/電池,電氣 溫度區間 常用:200℃-2000℃
加熱電壓/控制電壓 380V/220V 控溫儀表精度等級 ≤0.25級
材質 進口氧化鋁纖維、 莫來石多晶纖維 加熱元件 電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒
加熱速率 0-20℃/min,建議5-10℃/min 溫控精度 ±1℃
溫控方式 PID程序儀表:主控+超溫報警 可通氣氛 氮氣、氫氣、氬氣等惰性氣氛
真空度 機械泵、分子泵、擴散泵
大同1200度PID智能控溫箱式實驗真空氣氛爐隨著1200度PID智能控溫箱式實驗真空氣氛爐的廣泛應用,其核心優勢在科研與工業領域持續釋放價值。在材料燒結實驗中,該設備通過三區獨立控溫技術,成功將氧化鋯陶瓷的晶界擴散效率提升23%,而真空環境下0.01Pa的極限氣壓保障了高活性鈦合金燒結時的成分純度。某高校課題組利用其多段程序升溫功能;

大同1200度PID智能控溫箱式實驗真空氣氛爐

大同1200度PID智能控溫箱式實驗真空氣氛爐隨著1200度PID智能控溫箱式實驗真空氣氛爐的廣泛應用,其核心優勢在科研與工業領域持續釋放價值。在材料燒結實驗中,該設備通過三區獨立控溫技術,成功將氧化鋯陶瓷的晶界擴散效率提升23%,而真空環境下0.01Pa的極限氣壓保障了高活性鈦合金燒結時的成分純度。某高校課題組利用其多段程序升溫功能,在第三代半導體碳化硅晶體制備中實現了梯度升溫-恒溫晶化的控制,使晶體缺陷密度降低至103/cm2量級。

針對特殊工藝需求,設備集成的氣體動態平衡系統展現出優勢。當通入5%氫氬混合氣時,系統能在15秒內完成爐腔氣氛置換,配合PID算法的實時修正,使氧含量波動穩定在±2ppm范圍內。這種性能為新能源電池正極材料的還原燒結提供了關鍵保障,某企業借此將磷酸鐵鋰材料的首周效率提升至92.6%。而模塊化設計的爐體結構,允許用戶快速更換剛玉莫來石或碳化硅爐膛,適應從金屬熱處理到陶瓷釉燒的跨領域需求。

大同1200度PID智能控溫箱式實驗真空氣氛爐的詳細介紹:

結構組成

  • 爐體:通常采用多層結構,外殼一般由優質的碳鋼或不銹鋼材質制成,具有足夠的強度和剛度,能夠承受爐內的高溫和壓力,起到保護內部部件和隔熱的作用。爐膛內部則使用高性能的陶瓷纖維、耐火磚等隔熱材料,可減少熱量散失,保證爐內溫度穩定。

  • 儀器設備 1200度PID智能控溫箱式實驗真空氣氛爐

  • 加熱元件:常見的有硅鉬棒、硅碳棒等,這些加熱元件能夠將電能轉化為熱能,使爐內達到 1200 度的高溫,可根據不同的溫度要求和工藝需求進行選擇。

  • 溫度控制系統:采用 PID(比例 - 積分 - 微分)控制器,通過對加熱元件的功率調節,精確控制爐內溫度。系統通常還包括溫度傳感器,如熱電偶或熱電阻,用于實時監測爐內溫度,并將溫度信號反饋給控制器,實現閉環控制,確保溫度控制精度。

  • 真空系統:由真空泵、真空管道、真空閥門和真空計等組成,用于在爐內建立真空環境,排除爐內的空氣和其他雜質氣體,為通入保護氣體創造條件,同時也有助于提高爐內氣氛的純度。

  • 氣體供應系統:包括氮氣、氬氣等氣體的氣源,如氣體鋼瓶或氣體發生器,通過管道和閥門將氣體輸送到爐內。系統還配備氣體流量計和壓力調節器,可精確控制氣體的流量和壓力,以滿足不同工藝對氣氛的要求。

  • 氣氛監測與調節裝置:配備氣體分析儀等設備,實時監測爐內氣氛的成分和純度,根據監測結果自動調節氣體的通入量和比例,確保爐內氣氛滿足工藝要求。

  • 電氣控制系統:主要包括配電柜、控制柜等,用于對加熱系統、氣氛控制系統、真空系統等各個部分的電氣設備進行控制和保護,實現設備的啟動、停止、參數調節等功能。

  • 冷卻系統:為了保證設備在高溫下的正常運行,通常設置有冷卻系統,如循環水冷卻或風冷裝置,用于對爐體、加熱元件、真空系統等關鍵部件進行冷卻,防止部件因過熱而損壞,延長設備的使用壽命。

  • 安全保護系統:配備多種安全保護裝置,如過溫保護、過壓保護、漏電保護、氣體泄漏報警等,當設備出現異常情況時,能夠及時切斷電源或采取其他保護措施,確保操作人員和設備的安全。

工作原理

  • 溫度控制原理:PID 控制器根據設定溫度與實際測量溫度的偏差,通過比例、積分、微分三個環節的運算,輸出一個控制信號,用于調節加熱元件的功率,使溫度穩定在設定值附近。

  • 真空與氣氛控制原理:真空系統通過真空泵將爐內氣體抽出,達到所需的真空度。氣體供應系統則根據實驗需求,將氮氣、氬氣等保護氣體通過管道和閥門精確地輸送到爐內,營造出特定的氣氛環境。

性能特點

  • 控溫精度高:采用 PID 智能溫控系統,能夠將溫度控制在 ±1℃甚至更高的精度范圍內,確保實驗結果的準確性和可重復性。

  • 溫度均勻性好:通過合理設計發熱元件的布置方式和爐膛結構,使爐內溫度分布均勻,保證材料在熱處理過程中能夠均勻受熱。

  • 氣氛控制靈活:可以根據實驗需求,精確控制爐內的真空度和氣氛成分,提供真空、氫氣、氧氣、氮氣和惰性氣體(如氬氣)等多種氣氛環境。

  • 操作便捷:配備友好的操作界面,如觸摸屏或工控機等,用戶只需通過操作界面即可輕松設置各項參數,實時監控爐內狀態。

  • 安全性能高:具備多種安全保護措施,如超溫保護、斷偶保護、過流保護、漏電保護等,保障設備和操作人員的安全。

應用領域

  • 科研領域:常用于材料科學、化學、物理等學科的前沿研究,如新型陶瓷材料的研發、金屬材料的微觀結構研究、納米材料的制備與改性實驗等。

  • 電子工業:在集成電路制造中,用于芯片的退火、擴散等工藝,在真空或惰性氣氛下防止芯片表面氧化,保證芯片的電學性能和制造精度。

  • 金屬加工行業:對金屬零件進行真空淬火、回火、退火等熱處理,在避免氧化脫碳的情況下,改善金屬的力學性能,提高零件的強度、韌性和耐磨性。

  • 陶瓷工業:用于陶瓷制品的高溫燒結,在真空或還原氣氛下,使陶瓷坯體致密化,提高陶瓷的強度、硬度和透明度等性能。

  • 粉末冶金行業:對金屬粉末或陶瓷粉末進行燒結成型,在真空或保護氣氛下,使粉末顆粒在高溫下相互融合,形成具有一定形狀和性能的制品,提高材料的致密度和性能。


值得關注的是,智能物聯功能的加入使設備管理進入新階段。通過4G模塊上傳的32組溫度-氣壓曲線數據,研究人員在云端平臺實現了多臺設備的集群分析,某研究所據此優化出的燒結工藝使納米氧化鋁的比表面積突破280m2/g。未來,隨著自適應控制算法的升級,該設備有望在超高溫精密燒結領域開拓更廣闊的應用空間。




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