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HTL-350光刻烤膠機(晶圓烤膠機)產品說明：
1.采用NanoHeat世界一級熱能技術驅動，超紅外線輻射、無機械發熱組件，可干燒，無電磁場干擾和危害，
2.板表面溫度均勻，溫度100℃以內，精度0.1~0.3°C，200℃以內，精度%0.5℃，
3.LED顯示，可設定預約溫度，內置溫度探頭和外部溫度探頭，可自由切換。
4.超溫報警功能，設定溫度計時功能，實驗更方便
5.陽極氧化、納米陶瓷黑色噴砂，熱射率高，無縫加熱板面，平整度高，耐酸，耐堿，耐腐蝕，無交叉污染，清潔容易。
6.可選帶有保溫蓋，整個加熱區形成一個保溫腔，大大提高溫度均勻度，也起到防塵作用；
7.機器可選擇帶有負壓功能，表面帶有若干吸附孔，可使被加熱材料與加熱板表面緊密貼合，起到受熱均勻效果；
8.免受磁干擾和危害：使其成為硅晶片晶圓研發，醫療和實驗室使用的好選擇
9.廣泛用于工業，電子半導體，農業，化學，制藥，生物，新材料備制等實驗加熱。
HTL-350光刻烤膠機(晶圓烤膠機)產品特性：
1.增強紅外線加熱技術，
2.具有真空負壓功能，表面設有若干吸附孔，可使被加熱材料與表面緊密貼合，從而達到受熱均勻效果。
3.帶有加熱保溫蓋，溫度可設置，整個加熱區形成一個保溫腔，大大提高溫度均勻度，也起到防塵作用；
4.自動進氣功能,過溫保護功能、超溫報警功能，計時功能，已獲得CE認證證書、實驗更安全、方便！！
HTL-350光刻烤膠機(晶圓烤膠機)技術參數：
1.加熱輸出功率：2000W
2.板面溫控：室溫～350℃
3.溫控模式：LED數顯溫度自由設定
4.溫度測試：內置溫控與外置溫控可切換
5.溫度控制精度：±0.1
6.加熱區：350×350mm（尺寸可定制）
7.功能選項：真空吸附功能：無極調節真空度，使樣品受熱更均勻；
8.頂針功能：直徑3mm,高度30mm任意設定高度，方便取片，樣品無接觸，避免污染；
9.限位功能：適合不同大小尺寸晶圓，防止樣品偏移，起到固定作用；
10.程序分段控制系統：時間設定，功率輸出比設定，升溫曲線，通信等
11.產品外形尺寸：420×460×250mm
12.板面材質：納米陶瓷噴砂加熱面板
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