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在蒸發鍍膜過程中，如采用電阻加熱、電子束加熱等方式使鍍膜材料蒸發，然后沉積在基底表面。氣體質量流量控制器（MFC）用于精確控制真空腔內的工藝氣體流量。例如，在鍍鋁膜時，氬氣常作為保護氣體和輔助氣體引入。MFC 精確控制氬氣流量，能防止蒸發的鋁原子在飛行過程中被氧化，確保鋁膜的純度和質量。