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湖南中村貿易有限公司
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  • 中村現貨:日本ORC光刻系統EDi系列

    中村現貨:日本ORC光刻系統EDi系列EDi-8310兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造...

    型號: EDi-8310 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:48:50 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體光刻系統EDi系列EDi-8310
  • 中村庫存:日本ORC光刻系統EDi系列

    中村庫存:日本ORC光刻系統EDi系列EDi-8308兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造...

    型號: EDi-8308 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:47:38 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體光刻系統EDi系列EDi-8308
  • 原裝新品:日本ORC光刻系統EDi系列

    原裝新品:日本ORC光刻系統EDi系列EDi-5308兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造...

    型號: EDi-5308 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:45:54 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生器EDi-5308
  • 原裝新品:日本ORC臭氧發生器

    原裝新品:日本ORC臭氧發生器ARV-O3ME兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景。寬...

    型號: ARV-O3ME 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:42:05 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生器ARV-O3ME
  • 中村到貨:日本ORC臭氧發生器

    中村到貨:日本ORC臭氧發生器ARV-O3MG兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景。寬...

    型號: ARV-O3MG 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:37:41 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生器ARV-O3MG
  • 中村供應:日本ORC 臭氧發生器

    中村供應:日本ORC 臭氧發生器ARV-O3XP兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景。...

    型號: ARV-O3XP 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:25:57 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-O3XP
  • 中村供應:日本ORC臭氧發生模塊

    中村供應:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M1000A兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場...

    型號: ARV-M1000... 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:19:37 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M1000A
  • 現貨庫存:日本ORC臭氧發生模塊

    現貨庫存:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M500A兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景...

    型號: ARV-M500A 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:18:12 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M500A
  • 現品庫存:日本ORC臭氧發生模塊

    現品庫存:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M1000A兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場...

    型號: ARV-M1000... 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:17:04 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M1000A
  • 中村庫存:日本ORC臭氧發生模塊

    中村庫存:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M500A兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景...

    型號: ARV-M500A 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:16:10 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M500A
  • 中村到貨:日本ORC臭氧發生模塊

    中村到貨:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M300D/A兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造...

    型號: ARV-M300D... 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:15:01 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M300D/A
  • 中村現貨:日本ORC臭氧發生模塊

    中村現貨:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M100D/A兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造...

    型號: ARV-M100D... 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:13:59 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M100D/A
  • 中村供應:日本ORC臭氧發生模塊

    中村供應:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M020D兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景...

    型號: ARV-M020D 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:12:15 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M020D
  • 在庫現貨:日本ORC臭氧發生模塊

    在庫現貨:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M005D兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景...

    型號: ARV-M005D 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:11:29 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M005D
  • 現貨庫存:日本ORC臭氧發生模塊

    現貨庫存:日本ORC臭氧發生模塊ARV-M001D兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景...

    型號: ARV-M001D 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:10:28 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體臭氧發生模塊ARV-M001D
  • 常備庫存:日本ORC 激光加工設備

    常備庫存:日本ORC 激光加工設備Exa-MS5兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景。...

    型號: Exa-MS5 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:07:15 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體激光加工設備Exa-MS5
  • 中村供貨:日本ORC半導體用紫外線照射裝置

    中村供貨:日本ORC半導體用紫外線照射裝置VUM-3500兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體...

    型號: VUM-3500 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:04:10 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體紫外線照射裝置VUM-3500
  • 中村庫存:日本ORC半導體用光刻設備

    中村庫存:日本ORC半導體用光刻設備PPS-8500兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場...

    型號: PPS-8500 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 15:00:14 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體光刻設備PPS-8500
  • 現品庫存:日本ORC半導體用光刻設備

    現品庫存:日本ORC半導體用光刻設備PPS-8300P1兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制...

    型號: PPS-8300P... 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 14:59:14 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體光刻設備PPS-8300P1
  • 日本ORC半導體用光刻設備

    日本ORC半導體用光刻設備PPS-8200P1兼容多種應用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術,適用于多種半導體制造場景。寬...

    型號: PPS-8200P... 所在地:長沙市參考價: ¥10000更新時間:2025/4/24 14:51:15 對比
    ORC/日本尺寸52mm x33mm半導體光刻設備PPS-8200P1

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