半導體行業中常用的兩種有機溶劑是異丙醇（IPA）和丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）。兩種有機溶劑都必須檢測痕量金屬污染物的含量，因為這些物質的存在將會對存儲設備的可靠性產生不利影響。由于具有快速測定各種工藝化學品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS）已成為了質量控制*的分析工具。本應用報告證明了NexION 300 ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠很容易的對IPA和PGMEA中全部痕量水平的雜質元素進行測定的能力。這一實驗在一次測定中同時使用標準模式和反應模式可以得到的分析結果。
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