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化學(xué)氣相沉積設(shè)備的介紹：
采用雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。
化學(xué)氣相沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu)：
該設(shè)備采用雙層殼體并帶有風(fēng)冷系統(tǒng)，使其爐體表面溫度都小于55℃，爐底安裝一對(duì)滑軌，可手動(dòng)滑動(dòng)，以便滿足特殊工藝的快速升降溫的求。 化學(xué)氣相沉積設(shè)備兩個(gè)加熱區(qū)的長度都是200mm分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制。爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa，當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí)，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管的沖擊石英管的長時(shí)間使用溫度<1100℃。對(duì)于樣品加熱的實(shí)驗(yàn)，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱，則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生(如爐管破裂，法蘭飛出等)。
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