什么是等離子體態?
等離子體態通常會被稱為“物質的第四態”不同于自然界中的固體、液體或氣體,等離子體只能從持續接受能量的氣體中獲取。
舉個例子,在氣體中放置兩個電極并施加一定的電壓以產生放電,此時便可產生等離子體。這就產生了一種包含許多高活性物質的電離介質,如離子(帶正電或負電)和激發的亞穩態分子。
在表面處理中,正是利用了這些高活性物質的特性,讓它們參與非常快速的化學反應。
冷等離子體,熱等離子體?
根據制造等離子體的技術手段和預期用途,氣體介質的溫度可保持在較低水平,接近環境溫度;又或者大幅上升,達到1000℃以上的溫度。這就是所謂的冷等離子體或熱等離子體。
常壓等離子體,或低壓等離子體?
等離子體可在低壓(或真空)或常壓下產生。
低壓等離子體需要在真空室中產生,一般是由真空泵制造低于大氣壓的壓力。這類裝置在表面處理方面提供了很大的可能性,但泵送時間的長短往往是其工業發展中的一個限制。
在大氣壓力下,等離子體會由專門設計開發的設備中產生。因此常壓等離子體的配置具有雙重經濟優勢:它避免了真空室和抽氣裝置的投入成本,并且,通過直接集成到連續運行的生產線上,這可以直接提高生產效率。
在AcXys Technologies,令我們引以為豪的等離子體技術是獨立自主開發的,包括集成在主機中的可控功率電子裝置,和性能出色的的等離子體源。
我們所開發的等離子體技術與設備,使高速處理材料成為可能,并能與工業應用中涉及的多種材料兼容。
等離子體處理對材料表面的影響
等離子體其顯著的化學反應性,可以用來改造許多材料的表面。為了獲得這一結果,只需將參與反應的氣流引向待處理的表面即可。
由此產生的可用于表面處理的化學反應可分為以下三類。
清潔與去污
等離子體技術能夠去除極薄的表面污染層,無論是有機物還是碳氫化合物。
除了基于液體的清潔技術外,在某些應用場景下也會使用等離子體清潔。
表面活化
表面活化是通過向材料表層添加原子或分子的方式,改變材料表面性質的過程。
這一工藝現已被廣泛應用在工業生產中,尤其是當涉及到需要增強粘合劑、油墨、油漆或清漆的附著力時。
薄膜沉積
等離子體技術同樣也會被應用在薄膜沉積的工藝中。
可通過將待沉積的液態或氣態化學制品與等離子體混合,最終沉積在材料表層。
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