您是否正在尋找便宜且簡單的濺射設備？

MSP-Mini僅使用一個按鈕自動涂覆。這是一種具有出色成本性能的設備。
該目標是一種消耗量的，使用尺寸較小（φ32mm），使運行成本較低。

AU目標作為標準。它證明了其對低磁化觀測臺SEMS進行預處理的能力。
可選的AG膜具有出色的光澤，并且可以輕松觀察光學顯微鏡下透明材料的表面。

小型磁控濺射裝置 MSP-MINI 核心優勢

1. 緊湊設計，空間利用率高

• 體積小巧，占地面積僅為傳統設備的1/3，適配高校實驗室、科研院所或小型企業等空間有限的環境。

• 一體化集成設計，減少外接組件需求，安裝靈活，輕松融入現有實驗平臺。

2. 操作簡便，快速上手

• 配備智能觸控界面，參數設置直觀清晰，無需復雜培訓即可獨立操作。

• 全自動真空控制系統，一鍵啟動鍍膜流程，顯著降低人為操作誤差。

• 支持多組工藝參數存儲，實驗條件快速切換，提升研發效率。

3. 高性價比，低使用成本

• 相比大型設備，采購成本降低50%以上，適合預算有限的用戶。

• 功耗低（<2kW），靶材利用率高，維護成本可控，長期使用經濟性顯著。

• 模塊化設計，關鍵部件可單獨更換，避免整機維修的高昂費用。

4. 穩定鍍膜，性能優異

• 磁控濺射工藝成熟，膜層均勻性達±5%以內，致密性好，附著力強。

• 支持多種靶材（金屬、合金、氧化物等），滿足導電膜、光學膜、防腐涂層等多樣化需求。

• 基片兼容性強，可處理直徑≤4英寸的樣品，適用于微納器件、傳感器等小型化產品。

5. 安全可靠，綠色環保

• 多重安全防護機制：真空異常報警、過流保護、防濺射短路設計，保障實驗安全。

• 封閉式濺射腔體，有效防止粉塵和氣體泄漏，符合實驗室環保標準。

6. 科研與教學雙重適配

• 為材料科學、電子工程等學科提供實踐平臺，助力學生理解鍍膜技術原理。

• 支持小批量試生產，幫助初創企業快速驗證工藝，縮短研發周期。

7. 擴展靈活，升級無憂

• 可選配射頻電源、加熱基片臺等模塊，拓展功能至絕緣材料鍍膜或高溫成膜。

• 提供定制化服務，根據需求調整腔體尺寸或靶位數量。

應用場景示例

? 高校實驗室：薄膜制備教學、新材料研發
? 企業研發中心：電子元件表面改性、光學器件鍍膜
? 創客工坊：微型傳感器、柔性電子器件開發

MSP-MINI設備規格

MSP-Mini消耗品和零件清單

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MSP-MINI的
AU目標
[t = 0.1mm]

MSP-MINI的
Ag目標
[t = 0.5mm]

旋轉泵油（包括500毫升）
[SMR-100]