金絲鍵合技術作為微電子封裝領域的關鍵互連技術,廣泛應用于集成電路芯片與基板、基板與殼體間的電氣連接。根據鍵合方法的不同,主要分為楔形鍵合和球型鍵合兩種形式:球焊鍵合具有方向靈活、可靠性高的特點;楔焊鍵合則能實現最小拱弧且單個焊點占用面積小。在復雜電子系統中,一個模塊可能包含大量金絲互連,任何一根金絲的失效都可能導致整個模塊甚至系統故障,因此金絲鍵合質量的嚴格控制至關重要。
金絲鍵合失效模式主要包括:線弧過長引起的塌陷短路、線弧過緊導致的頸縮點斷裂、參數過大引起的焊點過度變形斷裂,以及參數過小導致的焊點結合不牢等問題。這些失效模式往往與鍵合工藝參數設置不當直接相關。在實際生產中,超聲功率、鍵合壓力和鍵合時間等參數對金絲鍵合質量具有決定性影響。
針對上述問題,本文科準測控小編將介紹如何選用25μm高純度金絲,采用科學正交試驗方法,系統研究不同工藝參數對鍵合質量的影響規律,以金絲抗拉強度和焊點形貌作為評價指標,確定zui尤工藝參數范圍,為實際生產提供理論指導和技術支持。
一、金絲鍵合原理與標準
1、鍵合機理
金絲鍵合是通過熱、壓力和超聲能量的共同作用,在金屬表面形成原子擴散連接的過程。當金絲在壓力和超聲振動作用下與焊盤接觸時,接觸面的氧化層被破壞,新鮮金屬表面暴露并發生塑性變形,在原子間作用力下形成冶金結合。這一過程主要包括以下三個階段:
物理接觸階段:金絲在壓力作用下與焊盤表面接觸,接觸面積隨壓力增加而增大;
激活階段:超聲振動產生摩擦,破壞接觸面氧化層,促進金屬間擴散;
擴散鍵合階段:清潔金屬表面在高溫和壓力作用下形成原子級結合。
2、評價標準
本研究依據GJB548B-2005《微電子器件試驗方法和程序》標準,對金絲鍵合質量進行評估。標準規定金絲鍵合的抗拉強度應不低于3gf(約29.4mN)。此外,斷裂位置也是評價鍵合質量的重要指標:
理想斷裂:頸縮點斷裂,表明焊點結合強度高于金絲本身強度;
不良斷裂:焊點脫落,表明鍵合界面結合不牢固;
金絲中部斷裂:通常由機械損傷或材料缺陷引起。
二、試驗設備與方法
1、實驗設備
Beta S100推拉力測試機
本研究采用Beta S100推拉力測試機進行金絲抗拉強度測試,該設備具有高精度力傳感器(分辨率0.1gf)和精確定位系統,可準確測量金絲斷裂強度并記錄斷裂位置。鍵合過程使用自動金絲鍵合機完成,設備配備高精度超聲發生系統和壓力控制系統。
2、實驗材料
金絲材料:純度99.99%的25μm金絲
鍵合基板:鍍金2μm的介質基板
芯片焊盤:尺寸100μm×160μm的鋁焊盤,鋁膜厚600nm
3、推刀或鉤針
4、常用工裝夾具
三、試驗方案
采用正交試驗設計方法,研究楔焊和球焊鍵合中不同工藝參數的影響:
1、 楔焊鍵合試驗設計
因素水平:
超聲功率:16-18W(3水平)
鍵合壓力:14-16g(3水平)
鍵合時間:60-100ms(3水平)
評價指標:抗拉強度、斷裂位置、焊點形貌
2、球焊鍵合試驗設計
因素水平:
超聲功率:30-35μIn(3水平)
鍵合壓力:25-33g(3水平)
鍵合時間:30-35ms(3水平)
評價指標:抗拉強度、斷裂位置、焊點形貌
每組試驗條件制備9個樣品,每個樣品測試5根金絲,取平均值作為該條件下的抗拉強度值。
3、實驗結果與分析
1)楔焊鍵合結果
a、第一焊點測試結果
9組試驗的抗拉強度范圍為8.85-10.41gf,均顯著高于標準要求的3gf。斷裂位置均出現在頸縮點處,表明焊點結合質量良好。正交分析表明:
影響因素排序:形變量 > 超聲功率 > 鍵合時間
zui尤參數:鍵合時間60ms,形變量40%,鍵合壓力20g
b、第二焊點測試結果
抗拉強度范圍為7.98-9.79gf,斷裂同樣發生在頸縮點處。正交分析顯示:
影響因素排序:形變量 > 超聲功率 > 鍵合壓力
zui尤參數:鍵合時間120ms,形變量40%,鍵合壓力22g
2)球焊鍵合結果
a、第一焊點測試結果
抗拉強度范圍為5.47-6.81gf,部分樣品出現第二焊點脫焊現象。正交分析表明:
影響因素排序:鍵合壓力 > 超聲功率 > 鍵合時間
zui尤參數:超聲功率31μIn,鍵合壓力32g,鍵合時間39ms
b、補球加固后結果
抗拉強度顯著提高至11.11-12.28gf,斷裂位置均為頸縮點。正交分析顯示:
影響因素排序:鍵合時間 > 超聲功率 > 鍵合壓力
zui尤補球參數:超聲功率34μIn,鍵合壓力38g,鍵合時間29ms
4、zui尤工藝參數驗證
采用確定的zui尤工藝參數進行批量驗證,隨機抽取10根金絲測試結果顯示抗拉強度范圍為9.07-12.21gf,全部滿足標準要求且斷裂位置理想。鍵合一次成功率達到了100%,焊點形貌規整,無明顯的變形或損傷。
5、 結論
通過工藝參數優化,金絲鍵合抗拉強度顯著高于標準要求,且斷裂位置理想,一次鍵合成功率可達100%,滿足批量生產質量要求。
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