低溫恒溫槽操作規程

低溫恒溫槽的操作使用：

1、恒溫槽使用前槽內應加入液體介質，液面低于工作臺面30mm時不能開機，以防燒壞加熱器。
2、使用電源為220VAC/50Hz，設備必須有良好的接地。
3、泵開關和制冷開關：控制面板上的循環泵強制開關按鍵和制冷壓縮機強制開關按鍵請不要去按，除非有特殊的需要。
3.1.如果按了循環泵強制開關，循環泵會關閉。這樣槽內的液體不同位置溫度將會不均勻，影響恒溫效果。此時可再按循環泵強制開關開啟循環泵。
3.2、 低溫恒溫槽 如果在溫度自動控制的情況下按制冷壓縮機強制開關按鍵，制冷壓縮機會關閉。由于自動溫控時，制冷壓縮機處于常開狀態，此時的溫度是靠自動加熱來穩定液體溫度，如果關閉壓縮機，將無法控制溫度。需要按啟動鍵1秒，關閉設備。然后，再按啟動鍵1秒后啟動設備即可恢復溫度控制。
4. 恒溫槽 儀器應安置于通風干燥處，后背及兩側離開障礙物300mm以上距離。
5.低溫恒溫槽使用完畢，電源開關置關機狀態，拔下電源插頭。長期不使用，應放掉槽內液體，并擦洗干凈。
6.在60℃以上高溫時，當心碰著恒溫槽表面，以免燙手。

低溫恒溫槽正確使用和調修方法如下：
1.結構：低溫恒溫槽結構為金屬長方形，采用冷軋鋼板精心制作外殼，不銹鋼內膽，數顯溫控儀，電源，水泵均裝在控制盒內。
2.用范圍：低溫恒溫槽適用于生物、化學、物理、植物、化工等科學上作精密恒溫的直接加熱制冷，和輔助加熱制冷之用。
3.使用方法：使用前，請仔細閱讀說明書，熟悉儀器及控制面板部分，用兆歐表測量電源，插頭，接地是否有絕緣不良或短路情況。按溫度設定方法設定好實驗溫度，待溫度恒定之后，即可開始實驗。本恒溫加熱解質，使用蒸餾水，禁止使用河水和硬質水，若用自來水，則應在每次使用后，對恒溫鍋內進行一次清洗工作，防止加熱器上因積聚水垢而影響恒溫靈敏度。
4.設定溫度：按SET鍵可設定或查看溫度設定點。按一下SET鍵數碼管字符開始閃動,表示儀表進入設定狀態,按△鍵設定值增加，按▽鍵設定值減小，長按△鍵或▽鍵數據會快速變動，再一次按SET鍵儀表回到正常工作狀態溫度設定完畢，即可開啟加熱和循環泵開關。
5.維修：如修調節器和更換加熱管時，只要拆下控

低溫恒溫槽的應用領域：

循環水恒溫的應用領域：
生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫用冷帽、降溫毯等等。物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其zui低溫度必須在0℃以上。
冷卻水選型相關：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業，旋轉蒸發儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業。制冷能力在10KW以上大型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。
應用范圍：
對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產業用機器發熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用的純凈水在機內外循環冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。