化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>PD-200STL 等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)
PD-200STL 等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 SAMCO
- 型號 PD-200STL
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/9/6 13:51:59
- 訪問次數(shù) 297
產(chǎn)品標(biāo)簽
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1. 產(chǎn)品概述
PD-200STL是一種用于研發(fā)的低溫(80~400℃)、高速(>300nm/min)等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)。Samco的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術(shù)和液態(tài)TEOS源，以低應(yīng)力沉積SiO2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達(dá)100μm）。PD-200STL具有時尚、緊湊的設(shè)計，只需要小的潔凈室空間。
2. 設(shè)備用途/原理
塑料材料上保護(hù)膜的沉積在3D LSI的通孔側(cè)壁上沉積絕緣膜。光波導(dǎo)的制造（光纖芯/包層）。制造用于微型機(jī)械生產(chǎn)的面罩。覆蓋高縱橫比結(jié)構(gòu)，如MEMS器件。SAW設(shè)備的溫度補(bǔ)償膜和鈍化膜。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
加工范圍達(dá)?200毫米（8"）。陰耦合自偏析沉積技術(shù)可以實現(xiàn)低應(yīng)力薄膜的高速（>300nm/min）沉積。通過低溫沉積，可以在塑料表面上沉積薄膜。高縱橫比結(jié)構(gòu)的優(yōu)秀階梯覆蓋率，使用鍺、磷、硼液源控制折射率。PD-200STL設(shè)計時尚、緊湊，只需要小的潔凈室空間。
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