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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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閱讀：106 發布時間：2020/11/19
產業鏈轉移的quanqiu大趨勢為中國大陸集成電路行業的發展提供了新機遇。
diyi次產業轉移（美國→日本）：技術、利潤含量較低的封裝測試環節。
第二次產業轉移（日本→韓國、中國臺灣）：集成電路精細化分工。
第三次產業轉移（韓國、中國臺灣→中國大陸）：第三階段轉移為產業規模。
據第三方統計，至2022年quanqiu光刻膠市場規模將超過100億美元。
受益于半導體、顯示面板、PCB產業東移的趨勢，2019年中國光刻膠市場本土企業銷售規模約70億元，quanqiu占比約10%，發展空間巨大。目前，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主。
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。在紫外光等光照或輻射下，溶解度會發生變化的薄膜材料。
按曝光波長，可主要分為G-line、I-line、KrF、ArF d&ArF i、EUV等光刻膠。
在大規模集成電路的制備中，光刻膠要通過預烘、涂膠、前烘、對準、曝光、后烘、顯影和蝕刻等環節，將光罩（掩膜版）上的圖形轉移到硅片上。
光刻膠是集成電路制造的重要材料，光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。
光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%，并且耗時約占整個芯片工藝的40%-50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場巨大。
